Jednoduché zariadenie pre tvarovanie tenkých vrstiev kremíka, oxidov, nitridov a bežne používaných kovov anizotropným leptaním s využitím reaktívnych iónov (Reactive ion etching, RIE). Minimálne technické parametre: veľkosť vzorky min. 100 mm, výkon min. 100W pri frekvencii 13,56 MHz, možnosť nastavenia vákua pomocou prietokového ventilu, plynové prívody s prietokomermi pre min. 3 plyny. V cene zariadenia bude inštalácia a testovanie v reálnej prevádzke.
Vo vestníku neboli nájdené doplňujúce informácie.